1400℃三温区真空气氛管式炉以硅碳棒为发热元件；双层风冷结构；高纯氧化铝纤维真空吸附一次成型；高密度硅碳棒真空挤压成型；刚玉管外径为60、80mm。三个温区分别由三个独立的温控系统来控制且都为PID30段程序化控温。可通过调节三个温区的控温程序使炉管内温场形成一温度梯度，炉管两端装有不锈钢法兰，不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表，抽真空时真空度能够达到10-3 Pa,此系列真空气氛管式炉可以用CVD或PVD方法来生长开元旗牌材料和制作各种薄膜。

 主要用途：

三温区真空气氛管式炉是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品. ，广泛用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。